เครื่องเคลือบโลหะ

ประโยชน์ทั้งหมดของกระบวนการเคลือบ PVD ที่ผลิตเทคโนโลยีที่ทนทานที่สุด ยอดเยี่ยมที่สุด และล้ำสมัยที่สุดในยุคของเรา ตั้งแต่ไมโครชิปไปจนถึงแผงโซลาร์เซลล์ ไม่มีสิ่งใดสำคัญไปกว่าการที่การเคลือบ PVD สามารถใช้ได้โดยไม่มีสารพิษตกค้างหรือผลพลอยได้ ที่ทำลายสิ่งแวดล้อมโลกของเรา

งานฝีมือของเครื่องเคลือบ Metallizing

แนวคิดกระบวนการเคลือบด้วยสปัตเตอร์

การเคลือบสปัตเตอร์ที่เรียกว่าหมายถึงการทิ้งระเบิดเป้าหมายด้วยอนุภาคที่มีพลัง (เช่นไอออนบวก) ในห้องสุญญากาศเพื่อให้อะตอมหรือกลุ่มอะตอมบนพื้นผิวของเป้าหมายหลบหนีและอะตอมที่หลบหนีจะสร้างฟิล์มบนพื้นผิวของ ชิ้นงานที่มีองค์ประกอบเดียวกันกับชิ้นงาน วิธีการเตรียมฟิล์มบางนี้เรียกว่าการสปัตเตอร์ ในปัจจุบัน การสปัตเตอร์ส่วนใหญ่ใช้เพื่อสร้างฟิล์มบางที่เป็นโลหะหรือโลหะผสม โดยเฉพาะอย่างยิ่งสำหรับการผลิตอิเล็กโทรดของชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์และฟิล์มสะท้อนแสงอินฟราเรดบนพื้นผิวกระจก นอกจากนี้ การสปัตเตอร์ยังใช้เพื่อเตรียมฟิล์มบางที่ใช้งานได้ เช่น ฟิล์มบางเซรามิกนำไฟฟ้าแบบใส In2O3-SnO2 สำหรับอุปกรณ์แสดงผลคริสตัลเหลว

การเคลือบสปัตเตอร์มีสองวิธี: วิธีหนึ่งเรียกว่าการสปัตเตอร์ของลำแสงไอออน ซึ่งหมายถึงการทิ้งระเบิดที่พื้นผิวเป้าหมายด้วยลำไอออนในสถานะสุญญากาศ เพื่อให้อนุภาคที่สปัตเตอร์ก่อตัวเป็นฟิล์มบนพื้นผิวของสารตั้งต้น กระบวนการนี้ค่อนข้างแพงและส่วนใหญ่ใช้ในการเตรียมการพิเศษ อีกวิธีหนึ่งเรียกว่าแคโทดสปัตเตอร์ซึ่งส่วนใหญ่ใช้ปรากฏการณ์ของการปล่อยก๊าซแรงดันต่ำเพื่อให้ไอออนในสถานะพลาสมาทิ้งระเบิดพื้นผิวเป้าหมายและอนุภาคสปัตเตอร์จะสะสม พื้นผิวมันใช้โครงสร้างอิเล็กโทรดแบบแผ่นขนานเป้าหมายพื้นที่ขนาดใหญ่ที่ทำจากวัสดุเมมเบรนคือแคโทดและพื้นผิวที่รองรับฐานคือขั้วบวกซึ่งติดตั้งในภาชนะสูญญากาศแบบกระดิ่ง เพื่อลดมลภาวะ ขั้นแรกให้สูบแรงดันในโถเบลล์ให้น้อยกว่า 10-3~10-4Pa จากนั้นเติม Ar เพื่อรักษาแรงดันไว้ที่ 1~10Pa ใช้แรงดันไฟฟ้าหลายพันโวลต์ระหว่างอิเล็กโทรดทั้งสองสำหรับการเคลือบสปัตเตอร์

เมื่อเทียบกับการเคลือบแบบระเหย วัสดุเป้าหมาย (วัสดุฟิล์ม) ไม่มีการเคลือบผิวแบบสปัตเตอร์เปลี่ยนเฟส องค์ประกอบของสารประกอบมีความเสถียร และโลหะผสมนั้นไม่สามารถแยกส่วนได้ง่าย ดังนั้นวัสดุฟิล์มที่เหมาะสำหรับการเตรียมจึงกว้างมาก เนื่องจากพลังงานของอนุภาคที่สะสมบนซับสเตรตโดยการสปัตเตอร์สูงกว่าการระเหย 50 เท่า พวกมันจึงมีผลในการทำความสะอาดและให้ความร้อนกับพื้นผิว ดังนั้นฟิล์มที่เกิดขึ้นจึงมีการยึดเกาะที่แข็งแรง โดยเฉพาะอย่างยิ่ง การเคลือบสปัตเตอร์นั้นง่ายต่อการควบคุมองค์ประกอบของฟิล์ม สามารถเตรียมฟิล์มโลหะผสม ฟิล์มผสม ฟิล์มหลายชั้น และฟิล์มคอมโพสิตที่มีพื้นที่ขนาดใหญ่และสม่ำเสมอผ่านการสปัตเตอร์โดยตรงหรือสปัตเตอร์ปฏิกิริยา การเคลือบสปัตเตอร์ทำได้ง่ายการทำงานแบบอัตโนมัติอย่างต่อเนื่องและการผลิตขนาดใหญ่ อย่างไรก็ตาม เนื่องจากการใช้ไฟฟ้าแรงสูงและก๊าซในระหว่างการสปัตเตอร์ อุปกรณ์จึงค่อนข้างซับซ้อน ฟิล์มบางได้รับผลกระทบจากบรรยากาศสปัตเตอร์ได้ง่าย และอัตราการสะสมของฟิล์มบางก็ต่ำเช่นกัน นอกจากนี้ การเคลือบสปัตเตอร์จำเป็นต้องเตรียมเป้าหมายของส่วนประกอบต่างๆ ล่วงหน้า ซึ่งไม่สะดวกในการโหลดและยกเลิกการโหลดเป้าหมาย และอัตราการใช้งานของชิ้นงานไม่สูงเกินไป

พารามิเตอร์

แอปพลิเคชัน

บริษัท ของเรา

ป้ายกำกับยอดนิยม: เครื่องเคลือบโลหะ จีน ซัพพลายเออร์ ผู้ผลิต โรงงาน กำหนดเอง ซื้อ ราคา ใบเสนอราคา